인포그래픽 < 차세대 융복합 인시츄 나노분석 시스템 < 선도연구장비
세계 일류의 첨단과학을 이끄는 KBSI의 선도연구장비를 소개합니다
"나노소재 합성에서 분석 및 소자 제작/측정까지" 15개 공정, 분석장비가 하나로! 차세대 융복함 in-situ 나노분석시스템
제원 및 특징
차세대 융복함 in situ 나노분석시스템이란?
- 차세대 나노소재의 합성과 분석 및 소자제작과 측정까지 시료의 공기 노출 없이 진행할 수 있는 최첨단 대형연구장비
- 하나의 시료로 오염없이 다양한 분석 연구 진행이 가능
- 실시간 또는 in-situ 분석을 통해 물질의 성장메커니즘 및 상변이 과정 정밀 연구 가능
합성(나노소재 합성/증착) → 초고진공 시료 이송장치(시료가 공기에 노출되지 않고 오염없이 이동) → 성분/구조분석(조성비, 전자구조, 상태변화 분석) → 이미징(원자부터 수십um 영역의 형태와 구조 분석) → 소자제작 및 측정(오염없는 소재로 소자제작, 다양한 형상의 소자제작, 극저원에서 전기적 특성 평가)
장비 구성 설명
Left side
- PEALD(공정)
- Thermal Evaporator(공정)
- CVD(공정)
- Sputter(공정)
- PLD(2017)(공정)
- HV-CVD(공정)
- LEEM/PEEM(분석)
right side
- ARUPS(분석)
- Raman + Glove box(2017)(분석)
- Probe station(2017)(분석)
- LTS(11.3m)
- Pattern generator + Glove box(2017)(공정)
- SPM(분석)
- XPS/UPS(분석)
- NAP-XPS(분석)
장비 구성 설명
분류 |
약어 |
장비명 |
용도 |
분석 |
SPM |
Scanning Probe Microscopy |
주사탐참현미경 |
원자레벨 이미징 |
분석 |
u-XPS |
Micro X-ray Photoelectron Spectroscopy |
X-선/자외선 광전자분광기 |
조성 및 전자구조 분석 |
부대 |
LTS |
Linear(Sample) Transfer System |
선형이동시스템 |
각 장비로 시료 이송 |
공정 |
PEALD |
Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition |
플라즈마 원자층증착기 |
원자층 두께로 조절하며 물질 제작 |
분석 |
NAP-XPS |
Near-ambient pressure XPS(국내최초) |
유사상압X-선 광전자분광기 |
25mbar에서 촉매반응 등에 의한 조성 및 전자구조 변화 측정 |
공정 |
|
Thermal Evaporator |
열증착기 |
다양한 금속 박막 제작 |
공정 |
HV-CVD |
High Vacuum ChemicalVapor Deposition |
고진공화학증착기 |
고진공에서 나노 물질 합성 |
분석 |
LEEM/PEEM |
Low Energy Electron Microscopy/Photoemissing Electron Microscopy(국내 최초) |
수차보정 저에너지전자현미경 광전자현미경 |
수~수십 eV전자현미경, 나노물질 형태와 구조 관측(해상도 ~ 1.5nm) |
공정 |
TCVD |
Thermal Chemical Vapor Deposition |
열화학증착기 |
저차원 나노물질 합성 |
공정 |
DC/RF sputter |
DC/RF Magnetron Sputter |
DC/RF 스퍼터 |
고순도 금속 및 금속산화물 제작 |
분석 |
ARUPS |
Angle-resolved UV Photoelectron Spectroscopy |
각분해자외선광전자분광기 |
k-space 전자구조 측정 |
분석 |
|
Low-temperature Prode Station |
저온 프로부 스테이션 |
다양한 소자 특성 측정 |
공정 |
|
Glove box |
글로브박스 |
오염없이 소자제작 공간 |
분석 |
Raman |
Raman Spectroscopy |
라만분광기 |
성분 구조 분포 측정 |
공정 |
|
Pattern generator |
패턴형성기 |
소자 패턴 제작 |
공정 |
PLD |
Pulsed Laser Deposition |
펄스레이저증착기 |
초고순도 금속, 반도체 물질 제작 |
활용분야
저차원 신소재 나노소자의 표면/계면 분석연구
- 신소재 개발 및 종합 물성 분석
- 2차원 소재의 물리화학적 표면 구조/물성 분석
- 초고진공 및 반응환경에서의 촉매물질의 성분분석
- 나노 물질의 전자구조 연구
장비구축 로드맵
(A) : 분석장비
(P) : 공정장비
(S) : 부대장비
-
2011
1. UHV-SPM(A)
-
2012
2. u-XPS(A)
3. LTX(S)
3-1. Intro chamber(S)
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2013
4. PEALD(P)
-
2014
5. NAP-XPS(A)
6. Thenrmal Evaporator(P)
7. HV-CVD
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2015
8. LEEM/PEEM(A)
9. TCVD(P)
10. DC/RF Sputter(P)
3-2. LTS extension(S)
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2016
11. ARUPS(A)
12. Probe station(A)
13. Glove box(P)
14. GCIS(S)
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2017
14. Raman(A)
15. Patter generator(P)
16. PLD(A)